Ausstattung

Dem Institut für Mikro- und Nanomaterialien der Universität Ulm stehen für Forschungs- und Entwicklungsaufgaben modernste Laborausrüstungen zur Verfügung. Die Ausstattung erlaubt die Präparation von Werkstoffproben, deren Analyse und die Herstellung von Legierungen. Innerhalb von Verbund-Projekten kommt diese vielfältige Gerätetechnik auch den Partnern zugute. Eine Auswahl der Ausrüstungen ist nachfolgend aufgelistet:

Probenherstellung

  • UHV-Aufdampfanlage zur Herstellung dünner Schichten
  • Sputteranlagen (DC, RF) zur Herstellung von Dünnschichten und Multilagen
  • CVR-Reaktor zur Herstellung nanokristalliner  Oxide
  • HF-CVD zur Beschichtung mit nanokristallinem Diamant
  • RIE-Analage zum Ätzen
  • Aufschmelz- und Gießtechnik zur Herstellung von Legierungen

Probenanalyse

  • Röntgendiffraktometer zur mikrostrukturellen Analyse (XRD)
  • Texturgoniometer für Stress- und Spannungsanalyse sowie Bestimmung der Orientierungsverteilungsfunktion (XRD)
  • Hochauflösendes Rasterelektronenmikroskop (REM, Zeiss Leo 1540)
  • Röntgenfluoreszenzspektrometer (XRF)
  • Röntgen-Photoelektronenspektroskopie (XPS)
  • Rastersondenmikroskopie (SPM) mit non-contact/tapping mode-AFM und MFM
  • Ultraschall-Mikroskop, z.Zt. 20-150 MHz 
  • Nanoindenter zur Härteprüfung an dünnen Schichten
  • Picoindenter Hysitron für ortsaufgelöste Härte- und Scratchtests
  • Laserakustischer Meßplatz zur Bestimmung elastischer Materialeigenschaften
  • Thermomechanischer Meßplatz (Dynamisch-mechanische Analyse)
  • Kalorimetrischer Meßplatz (Dynamische Differenz-Kalorimetrie DSC, Hochtemperatur-Kalorimetrie und -gravimetrie)
  • Mechanische und optische Profilometrie
  • Meßplatz zur Bestimmung mechanischer Eigenspannungen dünner Schichten
  • Vibrationsmagnetometer (Foner-Typ, Lake Shore)
  • Kerr-Mikroskop mit Hardware-Echtzeit-Bildverarbeitung (Hamatsu Argus)
  • Magneto-optischer Kerr-Effekt Messplatz
  • Magnetowiderstands-Messplatz (GMR, AMR)
  • Fourier-Transformations-IR-Spektrometer (FT-IR)
  • Vier-Spitzen-Meßplatz zur Bestimmung des spezifischen elektrischen Widerstandes an dünnen Schichten