Inhaltsangabe

Abteilungsbericht 1998

I.	Filme
II.	Mikro- und Nanostrukturen
III.	Ionenbestrahlung
IV.	Quantenschwebungen mit Röntgen- und Synchrotronstrahlung
V.	Ein Gang durch die Abteilung (Bildergallerie)
VI.	Anhang

		Vorwort
I.		Filme: Präparation und Charakterisierung I.A. Ultraharte Schichten I.A.1. Diamant I.A.2. Kubisches Bornitrid I.B. Metastabile Systeme I.B.1. Grenzflächenreaktionen bei tiefen Temperaturen I.B.2. Abschreckende Kondensation I.C. Oxidfilme I.C.1. Wolframoxid (WO₃) I.C.2. Vanadiumoxid (VO₂) I.C.3. Kombinierte in situ Präparation und Charakterisierung: UHV-Cluster I.D. Hochtemperatursupraleiter I.D.1. Präparation von epitaktischen YBCO -Filmen I.D.2. Charakterisierungstechniken I.D.3. Verlustmechanismen und Vortexphasen I.E. Durch Laserablation hergestellte Schichten
II.		Mikro- und Nanostrukturen: Präparation und Charakterisierung II.A. STM/AFM-Methoden II.B. Experimentelle Möglichkeiten im Reinraum II.C. Nanostrukturen auf der Basis selbst-organisierender Systeme II.C.2. Erste mögliche Anwendung II.C.3. Eine weitere Anwendung: Au-Nanoinseln als Ätzmasken II.C.4. Zum optischen Verhalten von Au-Nanoinseln II.C.5. Förderungen, Kooperationen, Dissertationen & Diplomarbeiten, Publikationen
III.		Ionenbestrahlung III.A. Aufbau des 350 keV-Ionenbeschleunigers III.B. Die Bestrahlungskammern III.B.1. Der Tieftemperatur- Bestrahlungskryostat am mittleren Strahlrohr III.B.2. Der Tieftemperatur- Bestrahlungskryostat am linken Strahlrohr III.B.3. Die UHV-Tieftemperatur- Bestrahlungskammer III.C. Laufende Experimente
IV.		Quantenschwebungen mit Röntgen- und Synchrotronstrahlung IV.A. Einleitung IV.B. Quantenschwebungsexperimente mit Synchrotronstrahlung IV.C. Quantenschwebungen in einem Röntgeninterferometer IV.D. Schlußbemerkung
V.		Ein Gang durch die Abteilung (Bildergallerie) UHV-Cluster Si(111)7x7 (STM) Au-Inseln auf GaAs (AFM) Au-Inseln auf Glimmer nach Plasma-Behandlung UHV-SQUID-Magnetometer Dual Beam Sputteranlage Strahlrohre und Bestrahlungskammern des 350keV Ionenbeschleunigers UHV-Kammer zur Messung optischer Eigenschaften an ionenbestrahlten Filmen He-Verfküssiger mit Vorratsbehälter Tieftemperatur- und Festkörperphysik-Praktikum Optische Lithographie im Reinraum Elektronenstrahl-Lithographie im Reinraum Sputteranlage zur Präparation von Hochtemperatur- Supraleiterschichten (Reinraum) Rechnerraum der Abteilung
VI.		Anhang Personal seit April 1995 Diplomarbeiten in der Abteilung Dissertationen Festkörperkolloquium seit 1995 Übersicht der Forschungsthemen Übersicht der Geräte Struktur der Abteilung