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Ursachen des 1/f
Rauschens in Metallfilmen beim Übergang kristallin-amorph
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Allgemeine
Kurzinformation zum Thema:
Weithin bekannt
in Metallproben ist das 'weiße' Rauschen: Auf Grund thermischer
Fluktuationen der Elektronen kommt es zu Spannungsschwankungen <U²>
an einem Widerstand R, die frequenzunabhängig sind. Zur Messung
dieses Rauschens muss kein Strom durch die Probe fließen.
Weniger bekannt ist das 'Widerstandsrauschen', welches bei Stromfluss
beobachtet werden kann und verursacht wird durch Widerstandsschwankungen,
die wiederum ihre Ursache in atomaren Umlagerungen innerhalb der
Probe haben. Dieser Typ des Rauschens zeigt eine Frequenzabhängigkeit,
die sich häufig als ~1/f herausstellt.
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Aufgabenstellung:
In der Diplomarbeit
soll nun untersucht werden, wie sich dieses 1/f-Rauschen quantitativ
verhält, wenn ein polykristalliner Ausgangsfilm systematisch
durch Ionenbestrahlung gestört wird, bis er schließlich
in einen glasartigen Zustand überführt ist ('amorphes
Metall'). Eigene Untersuchungen weisen darauf hin, dass chemisch-aktive
Fremdatome einen wesentlichen Einfluss auf das 1/f-Rauschen nehmen
können. Dieser Punkt soll genauer untersucht werden.
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Angewandte
Techniken:
Präparativ:
Aufdampf- und Vakuumtechnik zur Filmherstellung (vorhanden)
Messtechnik:
Hochempfindliche Rauschmessung (Spektralanalysator, Lock-in-Technik)
(vorhanden)
Defekterzeugung:
Ionenbestrahlung bei tiefen Temperaturen
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