Abschlussarbeiten

diese Seite druckenzur StartseiteKontaktHomepage durchsuchenthis page in English

Diplom- und Staatsexamenarbeiten bei Prof. Dr. B. Koslowski zurück zur Übersicht
   

Strukturelle und elektronische Eigenschaften von an Metalloberflächen adsorbierten organischen Molekülen

Allgemeine Kurzinformation zum Thema:
Im Rahmen des Sonderforschungbereiches SFB 569 werden Möglichkeiten zur Funktionalisierung anorganischer Oberflächen mit Hilfe organischer Moleküle untersucht. Hierzu soll mit unserem neuen Raster-Tunnelmikroskop (STM), das im Ultra-Hoch-Vakuum (UHV) und bei tiefen Temperaturen (~5K) betrieben wird, die elektronischen (Tunnelspektroskopie, elektronische Zustände) und die dynamischen Eigenschaften (inelastische Tunnelspektroskopie, phononische Zustände) von Oligothiophenen in enger Zusammenarbeit mit der Abteilung für Organische Chemie II bestimmt werden.
Aufgabenstellung:
Es sollen Gold-Substrate (Gold-Film auf Glas, evtl. auch Einkristalle im UHV) so präpariert werden, dass sie vorzugsweise die (111) -Oberfläche mit ausgedehnten, atomar glatten Terrassen ausbilden. Auf diese sollen die Moleküle, zuerst 3-Thiophene, in geringen Bedeckungen und als Monolage aufgebracht werden, so dass sie mit dem STM untersucht werden können. Zwecks leichterer Handhabung sollen die ersten Experimente mit einem Luft-STM unternommen werden. Später sollen die Messungen bei tiefen Temperturen durchgeführt werden, um zuverlässige Aussagen über die elektronische und vibronische Struktur der Moleküle zu erhalten. Die Arbeit schliesst eine enge Kooperation mit der Organischen Chemie II und evtl. mit der theoretischen Physik ein. Die Entwicklung einer UHV-kompatiblen Präparationstechnik der Moleküle auf den o.g. Substraten wird ebenfalls angestrebt.
Angewandte Techniken:
Präparation von Gold-Filmen auf Glas mittels Flammenglättung; Deposition von Molekülen auf die Gold-Oberfläche; Umgang mit einem STM (an Luft, im UHV und bei tiefen Temperaturen) und einem Ultra-Hoch-Vakuum-Cluster; Datenerfassung/-Auswertung mit einem PC; evtl. AFM.

 

Die Coulomb-Blockade regelmäßig angeordneter Metallinseln

Allgemeine Kurzinformation zum Thema:
Die Änderung der Ladung Q auf einem Kondensator C bewirkt eine Änderung der am Kondensator C anliegenden Spannung U gemäß C = Q/U. Die Quantisierung der elektrischen Ladung in e =1.6E-19C macht sich folglich in einer Quantisierung der an C anliegenden Spannung bemerkbar. Allerdings ist diese Quantisierung in der Energie E in dem Kondensator E = e2/2C so klein gegen die thermische Energie Eth = kBT, daß diese Quantisierung vollständig thermisch verschmiert wird. Bei ausreichend kleiner Kapazität (C~10-18F) verbietet jedoch die Energieerhaltung bereits bei Zimmertemperatur die Umladung des Kondensators, wenn nicht eine Spannung angelegt wird, die vergleichbar/größer ist als Uc = Eth /e. Derartig kleine Kapazitäten besitzen z.B. Nanometer große Metallkügelchen, die sich ca. 1 nm vor einer metallischen Oberfläche befinden. Die energetisch bedingte Blockierung von Umladeprozessen führt dann z.B. dazu, daß ein Tunnelstrom über dieses Kügelchen evtl. vollständig unterdrückt wird bzw. die sonst unabhängig tunnelnden Elektronen hier zeitlich korrelieren müssen. Man spricht von der Coulomb-Blockade.
Aufgabenstellung:
In einer vorangegangenen Diplomarbeit (Carsten Wilderotter) wurde versucht, mit einem aus der Abteilung Organ. Chemie III bekannten Verfahren regelmäßig angeordnete Goldkügelchen auf eine metallische Oberfläche (hier auch Au) so aufzubringen, dass diese Anordnung auch mit einem Raster-Tunnel-Mikroskop untersucht werden kann. In einer weiteren Diplomarbeit sollen nun die Au-Kügelchen ausreichend von der metallischen Unterlage entkoppelt und die Coulomb-Blockade für einzelne Teilchen nachgewiesen werden. Anschließend sollen der Einfluß von Nachbarn, regelmäßigen Anordnungen der Teilchen und der Einfluß intensiver elektromagnetischer Wechselfelder (Oberflächenplasmonen) untersucht werden. 
Vergleiche hierzu auch "Die Coulomb-Blockade linear angeordneter Metallinseln".
Angewandte Techniken:
Präparation von glatten Metallfilmen, Aufziehen von Polymer-Mizellen, Plasma-Ätzen, Raster-Tunnel-Mikroskopie, Raster-Kraft-Mikroskopie, Unterdrückte Totalreflexion (ATR) mit Laser(n), Computer zur Datenerfassung/- verarbeitung/-visualisierung. 

   
Die Feldemission von regelmäßig angeordneten Diamant-Nanoemittern

Allgemeine Kurzinformation zum Thema:
Diamant ist in vielerlei Hinsicht ein ganz besonderes Material. Nachdem man nun heute technisch in der Lage ist, künstlich Diamant herzustellen, wird gleichzeitig auch versucht, diese Eigenschaften technisch zu nützen. Eine davon ist die sogenannte negative Elektronen-Affinität, d.h. Elektronen im Leitungsband des Diamantes können selbigen ohne Energieaufwand verlassen, da das Leitungsband energetisch höher liegt als das Vakuumniveau. Es liegt also nahe zu versuchen, den Diamant als emittierendes Material für Elektronenquellen zu verwenden, z.B. in sogenannten flachen Displays. Wir sind hier in der Abteilung Festkörperphysik in der Lage sind, sehr dichte Felder von Diamant-Nanospitzen herzustellen, die eine extrem hohe Luminosität erwarten lassen.
Aufgabenstellung:
Die Felder von Diamantemittern sollen präpariert, auf ihre Emissionseigenschaften hin eingehend untersucht und der Präparationsprozeß auf die Emissionseigenschaften hin optimiert werden. Die Felder werden auf käuflich erhältlichen, künstlichen Hochdruck-Hochtemperatur-Diamantsubstraten präpariert. Nach einem Politurschritt werden mizellare, goldbeladene Polymer-Lösungen aufgebracht, die auf dem Diamant eine einzige Lage bilden. Das Polymer wird in einem Plasma verascht und gleichzeitig der freiwerdende Diamant geätzt, während der Diamant unter den goldbeladenen Mizell-Kernen geschützt ist. Die zurückbleibenden Goldkappen werden bei ca. 1100°C vedampft. Anschließend wird die Diamantoberfläche mit Wasserstoff terminiert. Die Charakterisierung der entstehenden Diamantemitter findet in einem Raster-Tunnelmikroskop (im Ultra-Hoch-Vakuum) statt, indem speziell dafür hergestellte Spitzen verwendet werden. Evtl. ist zur Optimierung der Diamantspitzen ein kurzer Wachstumsschritt (in einem vorhandenem Diamant-CVD-Reaktor) nötig.
Angewandte Techniken:
Mechanische Politur und chemomechanische Politur von Diamant; Aufziehen mizellarer Lösungen; Plasmaätzen; STM, AFM; CVD-Diamant-Synthese; UHV-Techniken.

Weiterentwicklung eines Rasterkraftmikroskopes zur Charakterisierung von Nanostrukturen

Aufgabenstellung:
Ein in einer vorangegangenen Diplomarbeit in Betrieb genommenes selbstkonzipiertes Rasterkraftmikroskop (AFM) zur Charakterisierung von Nanostrukturen soll im Hinblick auf seine Stabilität und leichtere Bedienbarkeit verbessert werden. Hierzu sollen insbesondere die Komponenten des optischen Detektionssystems verbessert, d.h. leichter adjustierbar und stabiler, gemacht werden und andererseits durch gezielte Wahl der Materialien die innere Stabilität erhöht und die thermische Empfindlichkeit reduziert werden. Es soll außerdem bestimmt werden, ob durch Miniaturisierung des AFM-Kopfes eine weitere mechanische Verbesserung erzielt werden kann, ohne Auflösungsvermögen zu verlieren.
Physikalisch soll das AFM dazu genutzt werden, die Adhäsion von mithilfe der mizellaren Technik hergestellten Nanoteilchen auf ihren Substraten zu bestimmen, um damit Aussagen über die mechanische Verbindung der Nanoteilchen zu ihren Unterlagen, d.h. über die Eigenschaften des Kontaktes, zu gewinnen. Hierbei wird das AFM sowohl im Kontaktmodus als auch im Tapping-modus betrieben. Weitergehend können dann die gewonnenen Kenntnisse zur Manipulation der Nanoteilchen, d.h. zur gezielten Veränderung der Anordnung, genutzt werden.
Der Diplomand kann sich auf die Verbesserung des AFM's und die Messungen mit dem AFM konzentrieren. Die Proben mit den Nanoteilchen werden von einer anderen Gruppe innerhalb des Institutes bereitgestellt.

Aufbau eines UHV-Rastertunnelmikroskopes zur Bestimmung von molekularen Thermokräften

Aufgabenstellung:
Ein bestehendes UHV-System soll um ein Rastertunnelmikroskop (STM) erweitert werden, das im Gegensatz zum vorhandenen Tieftemperatur-STM bei Raumtemperatur betrieben wird. Hiermit sollen Routine-Messungen durchgeführt werden, die keine tiefen Temperaturen erfordern. Insbesondere soll an diesem STM die Methode der Potentiometrie zur Bestimmung von Oberflächenpotentialen bzw. Thermokräften (d.h. in Gegenwart einer Temperaturdifferenz zwischen Tunnelsensor und Probe) implementiert werden.
Der Aufbau erfordert den Umgang mit UHV-Komponenten. Ein geeignetes STM ist vorhanden; es muss jedoch bzgl. elektrischen Verbindungen und mechanischer Entkoppelung an die neue Kammer angepasst werden. Eine Steuerelektronik und das computergestützte Datenerfassungssystem für das STM sind im Prinzip vorhanden, sollen aber in naher Zukunft reproduziert werden.
Physikalisch sollen die Potentiometrie genutzt werden, um Thermokräfte einer Metall-Vakuum-Metall-Tunnelverbindung zu messen, wobei die Probe zum Beispiel eine Goldoberfläche ist (Au(111)), die auch mit organischen Molekülen belegt werden kann.

Aufbau einer Vakuum-Apparatur zur Bestimmung von Feldemissionscharakteristiken

Aufgabenstellung:
Im Bereich der Nanostrukturierung sind immer wieder strukturierte Oberflächen interessant, die sich als kalte Elektronenemitter eignen. Dies begründet sich hauptsächlich auf der Anwendung als Leucht- bzw. Bildschirm, der im Gegensatz zur konventionellen Elektronenröhre mit Niederspannung betrieben werden und extrem flach sein könnte. Kalte Feldemitter spielen aber auch in z.B. der Elektronenmikroskopie eine herausragende Rolle, da sie eine extrem hohe Brillanz und Energieauflösung aufweisen. Man sich sogar vorstellen mithilfe der Nanostrukturierung flächige Elektronenquellen herzustellen, die ebene und kohärente Elektronenwellen produzieren.
Im Rahmen dieser Diplomarbeit soll eine kleine Vakuumkammer konzipiert und aufgebaut werden, in der die Emissionscharakteristika solcher nanostrukturierter Feldemitter bestimmt werden können. …