Vorlesung Dünnschichttechnologie

Umfang: 2V, 1 Ü, 1 P  

Kreditpunkte : 6 CP

Dozent: Prof. U. Herr

Ort und Zeit:

Vorlesung Termine noch festzusetzen (früher Mi 14-18, das geht aber wegen der Gremiensitzungen leider nicht mehr). Möglich z.B.: Mo ganztägig bis 16 Uhr, Fr ab 14 Uhr; alternativ: Blockveranstaltung möglich

Startup Meeting: Do, 4.5.2017, 47.2.235 (Büro Prof. Herr)

Sie können sich auch per email bei Prof. Herr für die Vorlesung anmelden.

Übung:      Termine nach Vereinbarung in der Vorlesung        

Praktikum: Termine nach Vereinbarung in der Vorlesung


Prüfung

Mündliche Prüfung nach Vereinbarung.

 

 

Inhalt

  1. Herstellung von Dünnschichten
    • Vakuumtechnik
    • Wachstumsprozesse
    • PVD und CVD
  2. Charakterisierung
    • Beugungsverfahren
    • Rastersondenmethoden
  3. Mechanische Eigenschaften
    • Grundlagen und Messverfahren
    • Spannungen und Spannungsrelaxation
  4. Elektrische und magnetische Eigenschaften
    • Elektrischer Widerstand
    • Grundlagen des Magnetismus und der Magnetooptik
  5. Anwendungsbeispiele
    • Speicherschichten
    • Magnetoelektronik

Literatur

Nanoelectronics and Information Technology, R. Waser (ed.), Wiley VCH, Weinheim, 2003

Materials Science of Thin Films, M. Ohring, Academic Press, 2002

The Materials Science of Semiconductors, Angus Rockett, Springer e-Book 2008 (KIZ)

D.C. Jiles, Introduction to Magnetism and Magnetic Materials, Chapman & Hall, London, 1995

 

 

Praktikum

Termine: werden in der Vorlesung vereinbart

Dünne Schichten (Herstellung)  in Raum 47.0.204 

Röntgendiffraktometrie und Reflektometrie  in Raum 47.0.225

Rasterelektronenmikroskopie (SEM)  in Raum 47.0.202.2

AFM   in Raum 47.0.227

MOKE/KERR  in Raum 47.1.237 und 47.0.224

GMR und Kerr-Mikroskop  in Raum 47.0.224