Oberflächenanalytik mit Photoelektronenspektroskopie (XPS)

XPS Apparatur mit monochromatischer Röntgenröhre

Die Röntgen-Photoelekronenspektroskopie, abgekürzt aus dem Englischen mit XPS (X-ray photoelectron spectroscopy), ist eine zerstörungsfreie Methode zur Untersuchung der chemischen Zusammensetzung von Oberflächen (wenige Nanometer) von festen Materialien wie massiven Festkörpern, Pulvern und dünnen Schichten. Die Untersuchungsmethode ist sowohl qualitativ wie auch quantitativ anwendbar. Neben einer rein chemischen Zusammensetzung lassen sich in vielen Fällen auch chemische Oxidationszuständen der chemischen Elemente bestimmen. Die Nachweisgrenze liegt, je nach Element, bei ca. 0.1-1%

Die Methode beruht auf der Analyse der kinetischen Energie von Photoelektronen, also Elektronen, die durch die Röntgenstrahlung angeregt und emittiert werden. Die elementspezifischen Bindungsenergien sind die Grundlage die Spektroskopie. Die Detektion von Photoelektronen ermöglicht die hohe Oberflächenempfindlichkeit der Methode, im Gegensatz zu anderen Techniken wie EDX (energy dispersive X-ray spectroscopy), die typischerweise bei Elektronenmikroskopen eingesetzt wird.

XPS Apparatur, Ausstattung

  • kommerzielle XPS Apparatur von Physical Electronics (PHI 5800)
  • monochromatische Al Kα Röntgenröhre für hohe laterale (1 mm) und chemische Auflösung
  • Al Kα und Mg Kα Röntgenanoden für einfache Messungen
  • Neutralisator zur Kompensation von Aufladungseffekten bei Isolatoren
  • "Sputtergun" zur Erstellung von Tiefenprofilanalyse (< 1 µm)

XPS Servicegruppe

Service-Messungen auch für externe Kunden

XPS-Labor: Uni West, Raum: 47.0.211

Kontakt:

Priv.-Doz. Dr. Joachim Bansmann
    Tel: 0731/50-25469
    joachim.bansmann(@)uni-ulm.de

Dr. Thomas Diemant
    Tel: 0731/50-25468
    thomas.diemant(@)uni-ulm.de

Sekretariat:

Iris Terwedow
    Tel: 0731/50-25451
    Fax: 0731/50-25452
    iris.terwedow(@)uni-ulm.de

 

 

 

Probenaufnahme für XPS

Probenteller für XPS Untersuchungen, maximale Größe der Proben: 50 mm